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Herkunftsort: | Xinxiang-Stadt, Henan-Provinz, China |
---|---|
Markenname: | PK |
Zertifizierung: | CE, ISO9001:2015, ISO14001:2015 |
Modellnummer: | YA |
Min Bestellmenge: | 1 |
Preis: | Negotiable |
Verpackung Informationen: | Standardexportpaket |
Lieferzeit: | ca. 30 Tage |
Zahlungsbedingungen: | T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union, MoneyGram |
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: | 800sets/year |
Modell: | YA1236/1530/1536/1542/1548/1836/1842/1848/2148/2160/2448 | Schirmbereich: | 4.3m2 | 14.4m2 |
---|---|---|---|
Schirm Mesh Size: | 6mm | 150mm | Schirmart: | Drahtgewebe-Maschendraht, Schirm-Platte |
Kapazität: | 80~1700 t/h | Energie: | 11kw | 30kw |
Schwingungsfrequenz: | 708/748/755/845 U/min | Doppelter Umfang: | 9.5/11mm |
Markieren: | Runder vibrierender Schirm,geneigter vibrierender Schirm |
Einleitung
Schüttelsiebe werden benutzt, um Materialien in verschiedene Größen für die Weiterverarbeitung oder für besondere Verwendung zu trennen. Das Material wird getrennt, indem man durch einen vibrierenden „Schirm oder Maschen“ überschreitet, der einiges unterschiedliches sortiert entsprechend den Anforderungen des Kunden hat. Die Endprodukte können im Gebäude und in den Baugewerben dann benutzt werden. Es kennzeichnet moderne Struktur, starke vibrierende Kräfte, niedrige Erschütterungsgeräusche, einfache Wartung, hohe Haltbarkeit und etc.
Der vibrierende Schirm mit Kreisbewegung ist besonders bestimmt, damit Steinbruch zerquetschtes Steinmaterial in verschiedene Größen trennt und wird auch als Sortiermaschine in den Baumaterials, elektrischer und chemischer Industrien der Kohlenbehandlung, der Erzaufbereitung, des benutzt.
Funktionsprinzip
Der Electromotor fährt den Gurt und den Flaschenzug, um die bewegliche Kiefermaßnahme, auf und ab durch die Exzenterwelle hin und her zu treffen. Der Rohstoff wird oder splitt gequetscht, wenn bewegliche Kieferplatte in Richtung zu örtlich festgelegtem Kiefer zusammen mit beweglichem Kiefer sich bewegt. Wenn beweglich, drehen sich Kiefer und bewegliche Kieferplatte zurück bis zum Exzenterwelle und Frühling, der Rohstoff, der vor Entladungen vom unteren Ausgang unter Kieferplatte gequetscht oder aufgespaltet wird. Die Masseproduktion geht in Erfüllung, während Electromotor sich ununterbrochen dreht und der bewegliche Kiefer den Rohstoff regelmäßig zerquetscht und entlädt.
Technische Parameter
Modell | Schicht | Schirm-Fläche (m2) | Winkel | Öffnungs-Größe (Millimeter) | MaterialSize (Millimeter) | Kapazität (t/h) | Frequenz (U/min) | Doppelter Umfang | Energiekilowatt) |
YA1236 | 1 | 1200*3600 | 20° | 6-50 | ≤200 | 80-240 | 845 | 9,5 | 11 |
2YA1236 | 2 | 1200*3600 | 20° | 6-50 | ≤200 | 80-240 | 845 | 9,5 | 11 |
YA1530 | 1 | 1500*3000 | 20° | 6-50 | ≤200 | 80-240 | 845 | 9,5 | 11 |
YA1536 | 1 | 1500*3600 | 20° | 6-50 | ≤200 | 100-350 | 845 | 9,5 | 11 |
2YA1536 | 2 | 1500*3600 | 20° | 6-50 | ≤400 | 100-350 | 845 | 9,5 | 15 |
YA1542 | 1 | 1500*4200 | 20° | 6-50 | ≤200 | 110-385 | 845 | 9,5 | 11 |
2YA1542 | 2 | 1500*4200 | 20° | 30-150 | ≤200 | 110-385 | 845 | 9,5 | 15 |
YA1548 | 1 | 1500*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 120-420 | 845 | 9,5 | 15 |
2YA1548 | 2 | 1500*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 120-420 | 845 | 9,5 | 15 |
YA1836 | 1 | 1800*3600 | 20° | 30-150 | ≤200 | 140-220 | 845 | 9,5 | 11 |
2YA1836 | 2 | 1800*3600 | 20° | 30-150 | ≤200 | 140-220 | 845 | 9,5 | 15 |
YA1842 | 1 | 1800*4200 | 20° | 6-150 | ≤200 | 140-490 | 845 | 9,5 | 15 |
2YA1842 | 2 | 1800*4200 | 20° | 6-150 | ≤200 | 140-490 | 845 | 9,5 | 15 |
YA1848 | 1 | 1800*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 150-525 | 845 | 9,5 | 15 |
2YA1848 | 2 | 1800*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 150-525 | 845 | 9,5 | 15 |
YA2148 | 1 | 2100*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 180-630 | 748 | 9,5 | 18,5 |
2YA2148 | 2 | 2100*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 180-630 | 748 | 9,5 | 22 |
YA2160 | 1 | 2100*6000 | 20° | 3-80 | ≤200 | 230-800 | 748 | 9,5 | 18,5 |
2YA2160 | 2 | 2100*6000 | 20° | 6-50 | ≤200 | 230-800 | 748 | 9,5 | 22 |
YA2448 | 1 | 2400*4800 | 20° | 6-50 | ≤200 | 200-700 | 748 | 9,5 | 18,5 |
Auswahl-Zustände
Verarbeitet zu werden ♦ Material:
|
♦ Schirmschicht/Plattform/Siebzahl:
|
♦ Schüttdichte: t/m3 |
♦ Maschenweite jeder Schirmschicht/Plattform/Sieb: Millimeter |
♦ materielle Temperatur: ºC |
♦ vorgeschaltete Ausrüstung (was ein bisschen Ausrüstung benutzt wird, um einzuziehen dem Material): |
♦ Wassergehalt: % |
♦ abwärts gerichtete Ausrüstung (was ein bisschen Ausrüstung benutzt wird, um das Material zu entladen): |
♦ Material ist ätzend oder nicht: (Ja oder nein) |
♦ Antrieb: (Inländische oder internationale Marke oder gekennzeichnete Marke?) |
♦ Material ist klebrig oder nicht: (Ja oder nein) |
♦ Baumaterial: (Kohlenstoffstahl, SS304, SS316L oder irgendwelche speziellen Anforderungen) |
♦ Körnchengröße des Materials: Millimeter |
♦ Arbeitsbereich: (Innen- oder im Freien) |
♦ max. Körnchengröße: Millimeter |
♦ Arbeitsbereichtemperatur: °C |
♦ Partikel-Verteilungsprozentsatz:
|
♦ Arbeitsfähigkeitsspg.versorgungsteil: 3 Phase V Hz |
♦ Umschlagskapazität: t/h |
♦ Quantität: Sätze |